万方视频_基于反应离子刻蚀工艺对功能材料刻蚀的研究

基于反应离子刻蚀工艺对功能材料刻蚀的研究

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2015中国（国际）功能材料科技与产业高层论坛——等离子体刻蚀是集成电路制造和MEMS工艺中常用的工艺步骤，随着等离子体刻蚀工艺的发展，越来越多的领域应用到这项技术。

关键词： 等离子体刻蚀芯片离子刻蚀机 2015中国（国际）功能材料科技与产业高层论坛

主讲人：助理研究员汪明刚 机构：中国科学院微电子研究所

时长：0:18:05 年代：2015年

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