基体偏压对反应磁控溅射氧化铝薄膜结构和性能的影响

第十二届国际真空冶金与表面工程学术会议(ICVMSE 2015)——氧化铝具有较高的机械强度与硬度,被广泛应用于机械、光学、材料、化工、微电子、医学等领域,利用PVD技术可实现在较低温度下氧化铝薄膜的制备。


关键词: 基体偏压 反应磁控溅射 氧化铝薄膜 第十二届国际真空冶金与表面工程学术会议(ICVMSE 2015)

主讲人:硕士 耿东森 机构:广东工业大学机电工程学院

时长:0:16:46 年代:2015年