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原子层沉积技术及运用

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第八届中国功能材料及其应用学术会议——在本报告中中国科学院微电子研究所的夏洋研究员为我们详细的介绍了ALD技术及设备，分别对ALD薄膜生长过程及特征、ALD与PVD、CVD间的区别进行了详细的讲解。

关键词： ALD技术 ALD薄膜原子层沉积技术薄膜材料第八届中国功能材料及其应用学术会议

主讲人：研究员夏洋 机构：中国科学院微电子研究所

时长：0:19:28 年代：2013年

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