Facing-Target Reactively Sputtered Single Phase Fe4N Films and Its Heterostructures（1）
2016中国国际功能材料大会(CIFM 2016)——Anomalous Hall effect (AHE) in the reactively sputtered epitaxial and polycrystalline γ′-Fe4N films is investigated systematically.
关键词： anomalous Hall effect;scaling law;heterogeneous system 2016中国国际功能材料大会(CIFM 2016)
主讲人：Prof. Wenbo Mi 机构：Tianjin University, China
时长：0:20:37 年代：2016年
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