硅通孔(TSV)电镀超级填充

2015年第二届海峡两岸电子电镀及表面处理学术交流会——本文通过对电镀添加剂基础性能和添加剂实际电镀效果的对比研究,发现TSV底部填充的关键是电镀体系中的抑制作用。


关键词: 硅通孔 电镀添加剂 底部填充 2015年第二届海峡两岸电子电镀及表面处理学术交流会

主讲人:博士 林保璋 机构:复旦大学

时长:0:16:56 年代:2015年