光催化与储能材料的原子层沉积制备

2014中国功能材料科技与产业高层论坛——原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)是一种薄膜制备技术,起源于芬兰。这种技术是通过将两种挥发性原料以气体脉冲的形式交替引人反应器,依靠留在样品表面的吸附分子进行反应而生成沉积物。相对于传统工艺而言,ALD在沉积层的均匀性、阶梯覆盖率、重复性等方面都具有明显的优势。原子层沉积在孔尺寸可调的多孔氧化钛、多孔氧化铁、储能材料(例如碳纳米管、石墨烯负载的NiO纳米粒子)等方向的有着广泛的应用。


关键词: 原子层沉积技术 超导材料 储能材料 光催化

主讲人:研究员 覃勇 机构:中国科学院山西煤炭化学研究所煤转化国家重点实验室

时长:0:18:19 年代:2014年